纳米医药混悬剂超高速剪切研磨均质机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。混悬液是指：以固体颗粒分散于分散媒中，颗粒与分散媒之间有相界面，称为混悬液。
一、产物概述
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二、产物介绍
纳米医药混悬剂超高速剪切研磨均质机设计*，能够延长易损件的使用时间，因此尤其适合高硬度和高纯度物料的粉碎。可以一机多用，也可以单独使用，且粉碎粒度范围广，成品粒径可以进行调整。混悬液是指：以固体颗粒分散于分散媒中，颗粒与分散媒之间有相界面，称为混悬液。
混悬液的贮存存在物理稳定性问题。混悬液中药物微粒分散度大 ，微粒与分散介质之间存在着物理界面，是混悬微粒具有较高的表面自由能，混悬剂处于不稳定状态。疏水性药物的混悬剂比亲水性药物存在更大的稳定性问题。若要制得沉降缓慢的混悬液，应减少颗粒的大小，增加分散剂的粘度及减少固液间的密度差。
纳米医药混悬液分散机，高剪切条件下的混悬液，高速通过工作腔定转子间隙，由于转子高速转动，物料在定转子间隙内，高速撞击、剪切等综合效应，将较大的颗粒粉碎成很小的微粒，它们的直径在0.01-2μm范围内。这个纯粹的物理过程保持产物原有的活性，与此同时，细化了颗粒，获得相对稳定的混悬液。
叁、纳米高剪切分散机的特点
1具有非常高的剪切速度和剪切力，粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。
2该设备可以适用于各种分散乳化工艺，也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的分散混合。
3叁级分散机由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加，从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。
GMD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产物。
第yi级由具有精细度递升的叁级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产物是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
四、GMD2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%
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