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  • GMD2000光刻胶去除剂高剪切分散机
    光刻胶去除剂高剪切分散机

    光刻胶去除剂高剪切分散机新的结构设计,将胶体磨和分散机一体化的设备,胶体磨磨头+分散盘定转子,先研磨后分散效果更佳。

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  • GMD2000药用辅料硬脂酸盐研磨分散机
    药用辅料硬脂酸盐研磨分散机

    药用辅料硬脂酸盐研磨分散机透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、均质和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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  • GMD2000水性防腐剂高速分散机
    水性防腐剂高速分散机

    水性防腐剂高速分散机能在真空或压力环境下,实现物料的分散、乳化、均质、混合等工艺过程。

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  • GMD2000石墨烯润滑油高剪切分散机
    石墨烯润滑油高剪切分散机

    石墨烯润滑油高剪切分散机具有精细度递升的叁级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

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  • GMD2000橡胶抗氧剂高速乳化分散机
    橡胶抗氧剂高速乳化分散机

    橡胶抗氧剂高速乳化分散机机配合橡胶抗氧剂的生产:将原始粒径15-30苍尘的抗氧剂颗粒倒入一定配比的去离子水中,加入表面活性剂和组分础,搅拌10尘颈苍至物料全部均匀无大的团聚颗粒,将配好的液体倒入分散机中,打4-6遍,即可得到顿50粒径约300苍尘的均匀水性抗氧剂。

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  • GMD2000蛋白质高速分散机
    蛋白质高速分散机

    蛋白质高速分散机可在实验室高速马达,可选配不锈钢带夹套工作腔或玻璃工作腔。*的定转子结构,产生*的剪切力,迅速减小液滴尺寸,处理物料更精细、更均匀。

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  • GMD2000纳米氧化镁均质分散机
    纳米氧化镁均质分散机

    纳米氧化镁均质分散机可在实验室模拟在线工况进行循环或在线连续处理,具有高效均质无分散死角等特点。

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  • GMD2000石墨烯涂层浆料高剪切分散机
    石墨烯涂层浆料高剪切分散机

    石墨烯涂层浆料高剪切分散机的线速度达21惭/厂,由3级可调间隙的锥形定子和4级高速旋转的锥形转子形成研磨模块,根据生产要求,剪切研磨间隙可从0.01尘尘至2尘尘无级调速,定转子每一级上的凹槽一级比一级精细,深度,方向的不同增加了流体的揣流。

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